X光顯微鏡機構
技術授權與產學合作諮詢
X光顯微鏡機構
本院覽號
02A-1001209
公告日期
智財權狀態
台灣(發明)I457598放棄維護、中國ZL 201210064915.X放棄維護、美國US 9,075,245 B2放棄維護
摘要
本發明使用特殊設計，除了便於攜帶更大幅降低熱膨脹問題，使X光顯微鏡進行奈米級量測時有極高之剛性與熱穩定性。
技術優勢
傳統X光顯微鏡體積龐大極不便於攜帶，且其機構設計不足以符合奈米等級結構量測之需求。本發明使用特殊設計，除了便於攜帶更大幅降低熱膨脹問題，使X光顯微鏡進行奈米級量測時有極高之剛性與熱穩定性。
應用範圍
奈米級材料3D呈像 奈米級生物3D呈像
創作人
胡恩德
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