穿透式輻射成像之方法、系統及光源
穿透式輻射成像之方法、系統及光源
本院覽號
02A-1020930
公告日期
智財權狀態
美國US 9,799,479 B2放棄維護、台灣(發明)I546057放棄維護
摘要
本發明之新型X光產生裝置配合新發明之影像處理系統，可於傳統之X光成像裝置上，得到相對比之影像強化效果。此X光產生系統只需使用微奈米製造之特殊靶材，可使用現有之高電壓電子束生成裝置得到高輝度之X光，可有效解決相對比X光影像亮度及取像時間緩慢之瓶頸，使相對比成像之優越軟租織成像能力，可以進入醫療臨床應用。
技術優勢
X光相對比成像利用物質對X光折射率之不同，可在吸收成像外，增加額外之影像對比成像。對軟組織或是軟物質，有極佳之成像效果。
應用範圍
所有X光醫療成像包括: 胸腔X光攝影、乳房攝影、斷層掃描攝影、心血管造影等 工業用非破壞性檢測
創作人
胡宇光、李宗澤、荊宇泰
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穿透式輻射成像之方法、系統及光源
