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    使用結構式照明的超解析率光學測繪術
    技術授權與產學合作諮詢

    使用結構式照明的超解析率光學測繪術
    本院覽號

    26A-980908

    公告日期

    智財權狀態

    台灣(發明)I438392已獲證、美國8,705,043已獲證、美國US 9,068,823 B2已獲證

    摘要

    本發明使用結構式照明於傳統廣視野顯微鏡,達到橫向解析率超越繞射極限的奈米級表面地形測繪。本技術的橫向解析率可達光源波長的33%,表面高度定位精確度小於10 nm。本技術的硬體架構非常簡單,具有低成本、高價值的特點。

    技術優勢

    1. 架構簡單,適用於任何現有的廣視野光學顯微鏡。
    2. 橫向解析率高。高度測繪精確度高。
    3. 可搭配各種光源使用。
    4. 成本低廉。

    應用範圍

    任何需要奈米級表面地形測繪的應用。例如材料科技、微米或奈米機電系統、生物樣本表面測繪等。

    創作人

    李超煌、王俊杰

    Sinica Logo

    檔案下載

    PDF-ICON使用結構式照明的超解析率光學測繪術
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    11529 台北市南港區研究院路二段 128 號

    電話

    +886-2-2787-2554

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