光學式多軸線性位移量測方法
技術授權與產學合作諮詢
光學式多軸線性位移量測方法
本院覽號
02A-951020
公告日期
智財權狀態
美國US7,804,605 B2放棄維護、台灣(發明)I365279放棄維護
摘要
本創新量測機制之光路架構最大之特色在於使用此單一光路即可同時針對待測物體X,Y與Z軸線性位移作非接觸式之精密量測。此創新量測機制的重要應用為光罩精密定位系統或3度空間加速規。另此系統最大之優點為可量測微小待測物及範圍之多軸線性移動。
技術優勢
非接觸式之精密量測 體積小不佔空間 架構簡單 比同級產品更高之定位解析度 製作成本低廉
應用範圍
多軸奈米級定位致動器 半導體設備 多軸加速規 陀螺儀、飛彈慣性導航系統 光學尺 三次元量床
創作人
黃英碩、胡恩德、黃光裕
檔案下載
光學式多軸線性位移量測方法