次微米結構製造方法
次微米結構製造方法
本院覽號
02T-1030511
公告日期
智財權狀態
know-how
摘要
一種特殊的製程方式，於透光材料上鍍金屬薄膜, 利用雷射再加上離子束蝕刻方式, 製做出次微米結構圖型。此種方法可做出小至數百奈米等級之圖型。如再搭配常見之黃光微影製程，即可大量製作出次微米等級之材料元件。
技術優勢
一般如要製怍光學或生醫元件，若要達到次米等級，須利用極為昂貴之電子束曝光製程技術，且無法大量製造。本製程技術可用常見之黃光製程，做出一般無法達到之次微米精度，價格便宜且可大量製造相關元件。
應用範圍
需達次微米結構精度之元件，如光學元件，生醫晶片，或超音波元件等。
創作人
薛韻馨、李固斌、陳志挺、郭白嘉、賴水金
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