具窄線寬特性之外腔雷射系統
技術授權與產學合作諮詢
具窄線寬特性之外腔雷射系統
本院覽號
07A-1011009
公告日期
智財權狀態
know-how
摘要
本發明係有關於具窄線寬特性之外腔雷射系統裝置與波長調整機構。在系統結構方面，其裝置之特徵在於使用一兩軸移動調整平台做為外腔雷射系統的主要結構。 本技術具有窄線寬、以及小體積之外腔半導體雷射系統。其設計簡單，調整與維護容易，並可應用於需要雷射線寬窄於1 MHz之場合。
技術優勢
與目前其他外腔雷射系統相較，本雷射系統具有以下優點： 本系統設計簡單，容易調整與維護。 具備較長之光學共振腔以窄化雷射線寬、以及縮小化整體 體積以增加雷射之穩定度。 本雷射同時可提高光柵之角度調變速率，以及雷射波長調 變頻率。
應用範圍
光譜學、雷射冷卻、光資訊儲存、全像術、干涉儀
創作人
張銘顯、莊賀喬、陳子傑
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具窄線寬特性之外腔雷射系統