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台灣(發明)I627449放棄維護、美國臨時案已申請、美國放棄申請

反射式曲面光柵需要於一曲面上製作微米到次微米結構，在製程上有相當的難度。一般是以干涉光微影術對一曲面上的光阻進行曝光顯影技術製作出光柵，配合離子蝕刻(ion-etching)等技術製作。或者利用微機電技術製造曲面光柵，這些方法製作過程複雜，需要昂貴的設備，並且耗時，因此具閃耀角的曲面光柵的價格昂貴。 我們所提出的反射式曲率及閃耀角光柵，能夠在單一個元件上進行光的收光，高效率分光與聚焦，具有輕巧，節省空間且不需要光路對準的優點。同時我們所提出的二次轉印氣助式熱壓印方法，不需要使用光阻，製作過程簡單且低製造成本。

利用此曲率式光柵做為光譜儀可以應用在需要光譜量測的感測器上，以及在光譜學的應用上，反射式曲率光柵能夠很容易的與智慧型手機或數位相機結合，不需要透鏡及光路的對準。