高品質超導金屬材料蝕刻與氧化製程
2025-02-06
高品質超導金屬材料蝕刻與氧化製程

摘要
利用半導體製程,我們設計一種製程方法於超導金屬使 (a) 導通金屬表面有良好電導性及 (b) 生長於約瑟夫結的氧化鋁層。這項創新提出了蝕刻技術與氧化技術,改善通過導孔和柱狀結構的上下電極之間的金屬接觸,且不損壞底層金屬表面。此製程工藝為超導材料基礎上,實現製作約瑟夫結的方法。
技術優勢
- 低成本與易整合於目前超導奈米製程
- 非破壞性製作金屬表層做短路銜接

圖1. 顯示整片晶圓在氧化前,室溫下兩百個約瑟夫結電阻測量的金屬接觸測試的累積分佈函數。在優化製程前,電阻低於20歐姆的測量比例從約70%增加到優化製程後的90%。
本院覽號
34A-1131114
公告日期
2025-02-06
智財權狀態
美國臨時案已申請
應用範圍
- 超導參數放大器 (TWPA)
- 超導量子位元晶片核心非線性電感元件
創作人
陳啟東
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