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高品質超導金屬材料蝕刻與氧化製程

2025-02-06

高品質超導金屬材料蝕刻與氧化製程
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摘要

利用半導體製程,我們設計一種製程方法於超導金屬使 (a) 導通金屬表面有良好電導性及 (b) 生長於約瑟夫結的氧化鋁層。這項創新提出了蝕刻技術與氧化技術,改善通過導孔和柱狀結構的上下電極之間的金屬接觸,且不損壞底層金屬表面。此製程工藝為超導材料基礎上,實現製作約瑟夫結的方法。

技術優勢

  • 低成本與易整合於目前超導奈米製程
  • 非破壞性製作金屬表層做短路銜接

圖1. 顯示整片晶圓在氧化前,室溫下兩百個約瑟夫結電阻測量的金屬接觸測試的累積分佈函數。在優化製程前,電阻低於20歐姆的測量比例從約70%增加到優化製程後的90%。

圖1. 顯示整片晶圓在氧化前,室溫下兩百個約瑟夫結電阻測量的金屬接觸測試的累積分佈函數。在優化製程前,電阻低於20歐姆的測量比例從約70%增加到優化製程後的90%。

本院覽號

34A-1131114

公告日期

2025-02-06

智財權狀態

美國臨時案已申請

應用範圍

  • 超導參數放大器 (TWPA)
  • 超導量子位元晶片核心非線性電感元件

創作人

陳啟東

檔案下載

PDF-ICON高品質超導金屬材料蝕刻與氧化製程
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  • 地址/Address

    11529 台北市南港區研究院路二段 128 號

  • 電話/Phone

    +886-2-2787-2554

  • Email

    ip@gate.sinica.edu.tw

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