像散式量測系統之光學成像機制
技術授權與產學合作諮詢
像散式量測系統之光學成像機制
本院覽號
02A-980624
公告日期
智財權狀態
美國US8269157B2放棄維護、台灣(發明)I401408放棄維護
摘要
此光學成像機制搭配像散式量測系統（ADS）可成為一套完整之光學量測平台。此成像機制可觀察量測光點以及物體表面之微小結構間之距離關係，搭配一致動器可將ADS之量測光點對焦於物體表面上微小結構之不同區域，並量測此結構之高度角度及其變化。
技術優勢
大幅縮短像散式量測系統之雷射光點瞄準時間 提升像散式量測系統之使用方便性
應用範圍
MEMS元件製程良率檢測 光學表面輪廓儀應用 以懸臂樑為基礎之生化感測器量測應用
創作人
黃英碩、胡恩德、洪紹剛
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像散式量測系統之光學成像機制